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| 品牌 | Eksma | 價格區間 | 麵議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學元件 | 應用領域 | 醫療衛生,環保,化工,電子/電池,綜合 |
Eksma 硒化鋅（ZNSE）窗口片
由於(yu) 透射範圍非常廣，可覆蓋0.6-22 µm的化學氣相沉積技術，因此生長的ZnSe作為(wei) 高光學質量的材料可用於(yu) 製造大功率IR激光器的光學組件（窗口片，反射鏡，透鏡）。
Eksma 硒化鋅（ZNSE）窗口片
產(chan) 品介紹
Ø在可見光譜的紅色端吸收低
Ø不吸濕
Ø在實驗室環境中相當穩定
硒化鋅（ZnSe）是紅外應用中受歡迎的材料。由於(yu) 透射範圍非常廣，可覆蓋0.6-22 µm的化學氣相沉積技術，因此生長的ZnSe作為(wei) 高光學質量的材料可用於(yu) 製造大功率IR激光器的光學組件（窗口片，反射鏡，透鏡）。
產(chan) 品型號
Uncoated
型號 | 直徑 | 厚度 | 鍍膜 |
560-6120 | ø 12.7 mm | 2 mm | uncoated |
560-6121 | ø 12.7 mm | 3 mm | uncoated |
560-6250 | ø 25.4 mm | 2 mm | uncoated |
560-6251 | ø 25.4 mm | 3 mm | uncoated |
560-6381 | ø 38.1 mm | 3 mm | uncoated |
560-6501 | ø 50.8 mm | 3 mm | uncoated |
560-6503 | ø 50.8 mm | 5 mm | uncoated |
鍍膜
型號 | 直徑 | 厚度 | 鍍膜 |
560-6122 | ø 12.7 mm | 2 mm | AR/AR@10.6 µm, AOI=0° |
560-6253 | ø 25.4 mm | 3 mm | AR/AR@10.6 µm, AOI=0° |
560-6383 | ø 38.1 mm | 3 mm | AR/AR@10.6 µm, AOI=0° |
560-6505 | ø 50.8 mm | 5 mm | AR/AR@10.6 µm, AOI=0° |
560-6766 | ø 76.2 mm | 6,4 mm | AR/AR@10.6 µm, AOI=0° |
物理性質
晶體(ti) 類型 | 立方體(ti) |
密度g / cm3 | 5.27 |
熔點，℃ | 1525 |
折射率@ 8-13 µm | n = 2.417-2.385 |
折射率@ 10.6 µm | n = 2.403 |
透射帶，微米 | 0.6÷22 |
體(ti) 積吸收係數cm-1 @ 10.6 µm | 0.6-1.0×10-3 |
線性熱膨脹係數，°C-1 | 8.56×10-6 |
規格
材料 | ZnSe |
表麵質量 | 40-20表麵光潔度(MIL-PRF-13830B) |
通光孔徑 | 90% of the diameter |
直徑公差 | +0.0 -0.13 mm |
厚度公差 | ±0.1 mm |
平行性 | 3 arcmin |
平整度 | λ /40 per inch @ 10.6 µm over clear aperture |
鍍膜 | both surfaces AR coated @ 10.6 µm, R ≤ 0.5% per surface |
EKSMA OPTICS是激光，激光係統和光學儀(yi) 器中使用的精密激光組件的製造商和供應商。 我們(men) 的激光組件可在科學，工業(ye) ，醫學，美學，軍(jun) 事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長範圍從(cong) 紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲(zi) （THz）範圍的激光光學組件的應用範圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體(ti) ，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈衝(chong) 拾取係統的製造商和供應商，它們(men) 用於(yu) 激光器和其他應用光學儀(yi) 器。
EKSMA Optics從(cong) 1983年開始在激光領域開始其一項業(ye) 務，其基礎是在激光和光學領域的長期專(zhuan) 業(ye) 知識。
公司提供的所有組件均經過質量控製實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴(yan) 格的檢查程序，質量控製評估以及對新技術的承諾，我們(men) 不斷改進並提供優(you) 良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資於(yu) 的製造設備和擴展製造能力。
公司擁有：❯用於(yu) 平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體(ti) LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體(ti) 的拋光設備。 of球麵鏡和非球麵鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們(men) 的鏡頭生產(chan) 工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS製成。 ❯IBS鍍膜設施可用於(yu) 激光光學和晶體(ti) 的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調製器的組裝設備–基於(yu) BBO，DKDP和KTP晶體(ti) 的普克爾斯盒。
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