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| 品牌 | Eksma | 價格區間 | 麵議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學元件 | 應用領域 | 醫療衛生,環保,化工,電子/電池,綜合 |
Eksma 薄膜偏振片（56度角）-1
Eksma 薄膜偏振片（56度角）-1
分離特定波長的s偏振和p偏振分量。由於(yu) 其高損傷(shang) 閾值，薄膜偏振片在高能激光器的應用中取代了格蘭(lan) 激光偏振棱鏡或立方偏振分束器。
產(chan) 品介紹
BK7和UV FS薄膜激光偏振片（TFP）的選擇範圍廣泛，可快速交付。薄膜偏振片具有較高的激光損傷(shang) 閾值，專(zhuan) 為(wei) 要求較苛刻的應用而設計，工作在1040-1070 nm範圍的Nd主激光器和飛秒的Ti：Sapphire或Yb：KGW / KYW激光器。
薄膜偏振片將特定波長或波長範圍的S偏振和P偏振分量分開。 由於(yu) 10 ns薄膜偏振片的高損傷(shang) 閾值在1064 nm處達到10 J / cm2，因此在高能激光器的應用中替代了格蘭(lan) 激光偏振棱鏡或立方偏振分束器。
薄膜偏振片用於(yu) 高能激光器。它們(men) 可以用於(yu) Yb：KGW / KYW或Ti：藍寶石激光器的基本波長及其諧波，也可以用作腔內(nei) Q開關(guan) 釋抑偏振片。使用薄膜激光偏振片的較有效方法是在布魯斯特角-56°±2°且損耗較小。
We offer four types of thin-film polarizers:
我們(men) 提供四種類型的薄膜偏振片：
Ø標準-Rs / Tp：> 99.5 / 95.0％，消光比Tp / Ts> 200：1
Ø高透射率（HT）-Rs / Tp：> 99.5 / 99.0％，消光比Tp / Ts> 200：1
Ø很高透射率（UHT）-Ts <0.2％，Rp <0.2％，消光比Tp / Ts> 200：1
Ø高消光比（HE）-Tp> 98％，Ts <0.1％，消光比Tp / Ts> 1000：1
EKSMA OPTICS是激光，激光係統和光學儀(yi) 器中使用的精密激光組件的製造商和供應商。 我們(men) 的激光組件可在科學，工業(ye) ，醫學，美學，軍(jun) 事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長範圍從(cong) 紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲(zi) （THz）範圍的激光光學組件的應用範圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體(ti) ，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈衝(chong) 拾取係統的製造商和供應商，它們(men) 用於(yu) 激光器和其他應用光學儀(yi) 器。
EKSMA Optics從(cong) 1983年開始在激光領域開始其一項業(ye) 務，其基礎是在激光和光學領域的長期專(zhuan) 業(ye) 知識。
公司提供的所有組件均經過質量控製實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴(yan) 格的檢查程序，質量控製評估以及對新技術的承諾，我們(men) 不斷改進並提供優(you) 良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資於(yu) 的製造設備和擴展製造能力。
公司擁有：❯用於(yu) 平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體(ti) LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體(ti) 的拋光設備。 of球麵鏡和非球麵鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們(men) 的鏡頭生產(chan) 工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS製成。 ❯IBS鍍膜設施可用於(yu) 激光光學和晶體(ti) 的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調製器的組裝設備–基於(yu) BBO，DKDP和KTP晶體(ti) 的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光，激光係統和光學儀(yi) 器中使用的精密激光組件的製造商和供應商。 我們(men) 的激光組件可在科學，工業(ye) ，醫學，美學，軍(jun) 事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長範圍從(cong) 紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲(zi) （THz）範圍的激光光學組件的應用範圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體(ti) ，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈衝(chong) 拾取係統的製造商和供應商，它們(men) 用於(yu) 激光器和其他應用光學儀(yi) 器。
EKSMA Optics從(cong) 1983年開始在激光領域開始其一項業(ye) 務，其基礎是在激光和光學領域的長期專(zhuan) 業(ye) 知識。
公司提供的所有組件均經過質量控製實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴(yan) 格的檢查程序，質量控製評估以及對新技術的承諾，我們(men) 不斷改進並提供優(you) 良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資於(yu) 的製造設備和擴展製造能力。
公司擁有：❯用於(yu) 平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體(ti) LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體(ti) 的拋光設備。 of球麵鏡和非球麵鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們(men) 的鏡頭生產(chan) 工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS製成。 ❯IBS鍍膜設施可用於(yu) 激光光學和晶體(ti) 的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調製器的組裝設備–基於(yu) BBO，DKDP和KTP晶體(ti) 的普克爾斯盒。
產(chan) 品型號
代碼 | 波長 | 材料 | 偏振效率 | 消光比 | 尺寸 | |||
420-1110E | 266 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 12.7 x 3 mm | |||
420-1240E | 266 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 25.4 x 3 mm | |||
420-1270 | 266 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | 28.6 x 14.3 x 3 mm | |||
420-1370 | 266 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | 35 x 20 x 3 mm | |||
420-1510E | 266 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 50.8 x 6 mm | |||
420-1242HE | 343 nm | UV FS | Tp>98%, Ts<0.1% | > 1000:1 | ø 25.4 x 3 mm | |||
420-1242HT | 343 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/99.0 % | > 200:1 | ø 25.4 x 3 mm | |||
420-1112E | 343 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 12.7 x 3 mm | |||
420-1242E | 343 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 25.4 x 3 mm | |||
420-1512E | 343 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 50.8 x 6 mm | |||
420-1272 | 343 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | 28.6 x 14.3 x 3 mm | |||
420-1372 | 343 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | 35 x 20 x 3 mm | |||
420-1122E | 355 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 12.7 x 3 mm | |||
420-1252HE | 355 nm | UV FS | Tp>98%, Ts<0.1% | > 1000:1 | ø 25.4 x 3 mm | |||
420-1252HT | 355 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/99.0 % | > 200:1 | ø 25.4 x 3 mm | |||
420-1252E | 355 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 25.4 x 3 mm | |||
420-1282 | 355 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | 28.6 x 14.3 x 3 mm | |||
420-1382 | 355 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | 35 x 20 x 3 mm | |||
420-1502E | 355 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 50.8 x 6 mm | |||
420-1123E | 400 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 12.7 x 3 mm | |||
420-1253E | 400 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 25.4 x 3 mm | |||
420-1283 | 400 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | 28.6 x 14.3 x 3 mm | |||
420-1383 | 400 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | 35 x 20 x 3 mm | |||
420-1503E | 400 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 50.8 x 6 mm | |||
420-0114E | 515 nm | BK7 | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 12.7 x 3 mm | |||
420-1114E | 515 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 12.7 x 3 mm | |||
420-1244HE | 515 nm | UV FS | Tp>98%, Ts<0.1% | > 1000:1 | ø 25.4 x 3 mm | |||
420-1244HT | 515 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/99.0 % | > 200:1 | ø 25.4 x 3 mm | |||
420-0244E | 515 nm | BK7 | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 25.4 x 3 mm | |||
420-1244E | 515 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 25.4 x 3 mm | |||
420-0274 | 515 nm | BK7 | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | 28.6 x 14.3 x 3 mm | |||
420-1274 | 515 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | 28.6 x 14.3 x 3 mm | |||
420-1374 | 515 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | 35 x 20 x 3 mm | |||
420-0514E | 515 nm | BK7 | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 50.8 x 6 mm | |||
420-1514E | 515 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 50.8 x 6 mm | |||
420-0124E | 532 nm | BK7 | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 12.7 x 3 mm | |||
420-1124E | 532 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 12.7 x 3 mm | |||
420-1484HE | 532 nm | UV FS | Tp>98%, Ts<0.1% | > 1000:1 | 20 x 15 x 6 mm | |||
420-1254HE | 532 nm | UV FS | Tp>98%, Ts<0.1% | > 1000:1 | ø 25.4 x 3 mm | |||
420-1254UHT | 532 nm | UV FS | Ts<0.2%, Rp<0.2% | > 500:1 | ø 25.4 x 3 mm | |||
420-1254HT | 532 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/99.0 % | > 200:1 | ø 25.4 x 3 mm | |||
420-0254E | 532 nm | BK7 | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 25.4 x 3 mm | |||
420-1254E | 532 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 25.4 x 3 mm | |||
420-0284 | 532 nm | BK7 | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | 28.6 x 14.3 x 3 mm | |||
420-1284 | 532 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | 28.6 x 14.3 x 3 mm | |||
420-1584HE | 532 nm | UV FS | Tp>98%, Ts<0.1% | > 1000:1 | 30 x 20 x 6 mm | |||
420-1384 | 532 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | 35 x 20 x 3 mm | |||
420-0504E | 532 nm | BK7 | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 50.8 x 6 mm | |||
420-1504E | 532 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 50.8 x 6 mm | |||
420-0125E | 633 nm | BK7 | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 12.7 x 3 mm | |||
420-0255E | 633 nm | BK7 | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 25.4 x 3 mm | |||
420-0285 | 633 nm | BK7 | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | 28.6 x 14.3 x 3 mm | |||
420-0505E | 633 nm | BK7 | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 50.8 x 6 mm | |||
420-0127E | 775 nm | BK7 | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 12.7 x 3 mm | |||
420-0257E | 775 nm | BK7 | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 25.4 x 3 mm | |||
420-0287 | 775 nm | BK7 | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | 28.6 x 14.3 x 3 mm | |||
420-0507E | 775 nm | BK7 | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 50.8 x 6 mm | |||
420-0136E | 780-820 nm | BK7 | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 12.7 x 3 mm | |||
420-1136E | 780-820 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 12.7 x 3 mm | |||
420-0266E | 780-820 nm | BK7 | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 25.4 x 3 mm | |||
420-1266E | 780-820 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 25.4 x 3 mm | |||
420-0296 | 780-820 nm | BK7 | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | 28.6 x 14.3 x 3 mm | |||
420-1296 | 780-820 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | 28.6 x 14.3 x 3 mm | |||
420-1396 | 780-820 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | 35 x 20 x 3 mm | |||
420-0526E | 780-820 nm | BK7 | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 50.8 x 6 mm | |||
420-1526E | 780-820 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 50.8 x 6 mm | |||
420-0126E | 800 nm | BK7 | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 12.7 x 3 mm | |||
420-1126E | 800 nm | UV FS | Rs/Tp:>99.5/95.0 % | > 200:1 | ø 12.7 x 3 mm | |||
材料 | BK7, UV FS | |||||||
表麵質量 | 20-10表麵光潔度 (MIL-PRF-13830B) | |||||||
透射波前畸變 | λ/10 @ 633 nm | |||||||
平行性 | < 30 arcsec | |||||||
通光孔徑 | > 90% | |||||||
入射角 | 56°±2° | |||||||
直徑公差 | +0.0 -0.12 mm | |||||||
厚度公差 | ±0.2 mm | |||||||
激光損傷(shang) 閾值 | 10 J/cm2, 10 nsec pulse at 1064 nm typical, 50 Hz | |||||||
消光比Tp / Ts | >200:1 (for standard, HT and UHT series) >1000:1 (for HE series) | |||||||
BK7和UV FS薄膜激光偏振片（TFP）的選擇範圍廣泛，可快速交付。薄膜偏振片具有較高的激光損傷(shang) 閾值，專(zhuan) 為(wei) 要求較苛刻的應用而設計，工作在1040-1070 nm範圍的Nd主激光器和飛秒的Ti：Sapphire或Yb：KGW / KYW激光器。
薄膜偏振片將特定波長或波長範圍的S偏振和P偏振分量分開。 由於(yu) 10 ns薄膜偏振片的高損傷(shang) 閾值在1064 nm處達到10 J / cm2，因此在高能激光器的應用中替代了格蘭(lan) 激光偏振棱鏡或立方偏振分束器。
薄膜偏振片用於(yu) 高能激光器。它們(men) 可以用於(yu) Yb：KGW / KYW或Ti：藍寶石激光器的基本波長及其諧波，也可以用作腔內(nei) Q開關(guan) 釋抑偏振片。使用薄膜激光偏振片的較有效方法是在布魯斯特角-56°±2°且損耗較小。
We offer four types of thin-film polarizers:
我們(men) 提供四種類型的薄膜偏振片：
Ø標準-Rs / Tp：> 99.5 / 95.0％，消光比Tp / Ts> 200：1
Ø高透射率（HT）-Rs / Tp：> 99.5 / 99.0％，消光比Tp / Ts> 200：1
Ø很高透射率（UHT）-Ts <0.2％，Rp <0.2％，消光比Tp / Ts> 200：1
Ø高消光比（HE）-Tp> 98％，Ts <0.1％，消光比Tp / Ts> 1000：1
EKSMA OPTICS是激光，激光係統和光學儀(yi) 器中使用的精密激光組件的製造商和供應商。 我們(men) 的激光組件可在科學，工業(ye) ，醫學，美學，軍(jun) 事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長範圍從(cong) 紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲(zi) （THz）範圍的激光光學組件的應用範圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體(ti) ，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈衝(chong) 拾取係統的製造商和供應商，它們(men) 用於(yu) 激光器和其他應用光學儀(yi) 器。
EKSMA Optics從(cong) 1983年開始在激光領域開始其一項業(ye) 務，其基礎是在激光和光學領域的長期專(zhuan) 業(ye) 知識。
公司提供的所有組件均經過質量控製實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴(yan) 格的檢查程序，質量控製評估以及對新技術的承諾，我們(men) 不斷改進並提供優(you) 良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資於(yu) 的製造設備和擴展製造能力。
公司擁有：❯用於(yu) 平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體(ti) LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體(ti) 的拋光設備。 of球麵鏡和非球麵鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們(men) 的鏡頭生產(chan) 工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS製成。 ❯IBS鍍膜設施可用於(yu) 激光光學和晶體(ti) 的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調製器的組裝設備–基於(yu) BBO，DKDP和KTP晶體(ti) 的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光，激光係統和光學儀(yi) 器中使用的精密激光組件的製造商和供應商。 我們(men) 的激光組件可在科學，工業(ye) ，醫學，美學，軍(jun) 事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長範圍從(cong) 紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲(zi) （THz）範圍的激光光學組件的應用範圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體(ti) ，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈衝(chong) 拾取係統的製造商和供應商，它們(men) 用於(yu) 激光器和其他應用光學儀(yi) 器。
EKSMA Optics從(cong) 1983年開始在激光領域開始其一項業(ye) 務，其基礎是在激光和光學領域的長期專(zhuan) 業(ye) 知識。
公司提供的所有組件均經過質量控製實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴(yan) 格的檢查程序，質量控製評估以及對新技術的承諾，我們(men) 不斷改進並提供優(you) 良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資於(yu) 的製造設備和擴展製造能力。
公司擁有：❯用於(yu) 平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體(ti) LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體(ti) 的拋光設備。 of球麵鏡和非球麵鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們(men) 的鏡頭生產(chan) 工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS製成。 ❯IBS鍍膜設施可用於(yu) 激光光學和晶體(ti) 的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調製器的組裝設備–基於(yu) BBO，DKDP和KTP晶體(ti) 的普克爾斯盒。
BK7和UV FS薄膜激光偏振片（TFP）的選擇範圍廣泛，可快速交付。薄膜偏振片具有較高的激光損傷(shang) 閾值，專(zhuan) 為(wei) 要求較苛刻的應用而設計，工作在1040-1070 nm範圍的Nd主激光器和飛秒的Ti：Sapphire或Yb：KGW / KYW激光器。
薄膜偏振片將特定波長或波長範圍的S偏振和P偏振分量分開。 由於(yu) 10 ns薄膜偏振片的高損傷(shang) 閾值在1064 nm處達到10 J / cm2，因此在高能激光器的應用中替代了格蘭(lan) 激光偏振棱鏡或立方偏振分束器。
薄膜偏振片用於(yu) 高能激光器。它們(men) 可以用於(yu) Yb：KGW / KYW或Ti：藍寶石激光器的基本波長及其諧波，也可以用作腔內(nei) Q開關(guan) 釋抑偏振片。使用薄膜激光偏振片的較有效方法是在布魯斯特角-56°±2°且損耗較小。
We offer four types of thin-film polarizers:
我們(men) 提供四種類型的薄膜偏振片：
Ø標準-Rs / Tp：> 99.5 / 95.0％，消光比Tp / Ts> 200：1
Ø高透射率（HT）-Rs / Tp：> 99.5 / 99.0％，消光比Tp / Ts> 200：1
Ø很高透射率（UHT）-Ts <0.2％，Rp <0.2％，消光比Tp / Ts> 200：1
Ø高消光比（HE）-Tp> 98％，Ts <0.1％，消光比Tp / Ts> 1000：1
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