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品牌 | Eksma | 價格區間 | 麵議 |
---|---|---|---|
組件類別 | 光學元件 | 應用領域 | 醫療衛生,環保,化工,電子/電池,綜合 |
Eksma 立方體(ti) 偏振分束器
偏振片鍍在立方體(ti) 分光鏡的內(nei) 表麵。薄膜偏振片利用偏振角度,該偏振角度發生在偏離90°角的反射上。
Eksma 立方體(ti) 偏振分束器
產(chan) 品介紹
Ø耐用方便
Ø針對流行的激光波長進行了優(you) 化
偏振片鍍在立方分光鏡的內(nei) 表麵。薄膜偏振片利用偏振角度,該偏振角度發生在偏離90°角的反射上。立方體(ti) 偏振分光鏡可以針對特定波長進行優(you) 化,以為(wei) 激光應用提供優(you) 良的性能。
EKSMA OPTICS是激光,激光係統和光學儀(yi) 器中使用的精密激光組件的製造商和供應商。 我們(men) 的激光組件可在科學,工業(ye) ,醫學,美學,軍(jun) 事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長範圍從(cong) 紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(zi) (THz)範圍的激光光學組件的應用範圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體(ti) ,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈衝(chong) 拾取係統的製造商和供應商,它們(men) 用於(yu) 激光器和其他應用光學儀(yi) 器。
EKSMA Optics從(cong) 1983年開始在激光領域開始其一項業(ye) 務,其基礎是在激光和光學領域的長期專(zhuan) 業(ye) 知識。
公司提供的所有組件均經過質量控製實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴(yan) 格的檢查程序,質量控製評估以及對新技術的承諾,我們(men) 不斷改進並提供優(you) 良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資於(yu) 的製造設備和擴展製造能力。
公司擁有:❯用於(yu) 平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體(ti) LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體(ti) 的拋光設備。 of球麵鏡和非球麵鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們(men) 的鏡頭生產(chan) 工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS製成。 ❯IBS鍍膜設施可用於(yu) 激光光學和晶體(ti) 的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調製器的組裝設備–基於(yu) BBO,DKDP和KTP晶體(ti) 的普克爾斯盒。
產(chan) 品型號
BK7, unmounted, 532 nm
型號 | 波長 | 反射(S-POL) | 透射(P-POL) | 尺寸 |
430-0101 | 532 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 10 x 10 mm |
430-0151 | 532 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 15 x 15 mm |
430-0201 | 532 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 20 x 20 mm |
430-0251 | 532 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 25 x 25 mm |
BK7, mounted, 532 nm
型號 | 波長 | 反射(S-POL) | 透射(P-POL) | 尺寸 |
430-0101-M2Ps | 532 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 10 x 10 mm |
430-0151-M2P | 532 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 15 x 15 mm |
430-0201-M2P | 532 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 20 x 20 mm |
430-0251-M2P | 532 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 25 x 25 mm |
BK7, unmounted, 633 nm
型號 | 波長 | 反射(S-POL) | 透射(P-POL) | 尺寸 |
430-0104 | 633 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 10 x 10 mm |
430-0154 | 633 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 15 x 15 mm |
430-0204 | 633 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 20 x 20 mm |
430-0254 | 633 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 25 x 25 mm |
BK7, mounted, 633 nm
型號 | 波長 | 反射(S-POL) | 透射(P-POL) | 尺寸 |
430-0104-M2Ps | 633 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 10 x 10 mm |
430-0154-M2P | 633 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 15 x 15 mm |
430-0204-M2P | 633 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 20 x 20 mm |
430-0254-M2P | 633 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 25 x 25 mm |
BK7, unmounted, 780 nm
型號 | 波長 | 反射(S-POL) | 透射(P-POL) | 尺寸 |
430-0102 | 780 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 10 x 10 mm |
430-0152 | 780 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 15 x 15 mm |
430-0202 | 780 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 20 x 20 mm |
430-0252 | 780 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 25 x 25 mm |
BK7, mounted, 780 nm
型號 | 波長 | 反射(S-POL) | 透射(P-POL) | 尺寸 |
430-0102-M2Ps | 780 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 10 x 10 mm |
430-0152-M2P | 780 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 15 x 15 mm |
430-0202-M2P | 780 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 20 x 20 mm |
430-0252-M2P | 780 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 25 x 25 mm |
BK7, unmounted, 1064 nm
型號 | 波長 | 反射(S-POL) | 透射(P-POL) | 尺寸 |
430-0103 | 1064 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 10 x 10 mm |
430-0153 | 1064 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 15 x 15 mm |
430-0203 | 1064 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 20 x 20 mm |
430-0253 | 1064 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 25 x 25 mm |
BK7, mounted, 1064 nm
型號 | 波長 | 反射(S-POL) | 透射(P-POL) | 尺寸 |
430-0103-M2Ps | 1064 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 10 x 10 mm |
430-0153-M2P | 1064 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 15 x 15 mm |
430-0203-M2P | 1064 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 20 x 20 mm |
430-0253-M2P | 1064 nm | Rs>99.5% | Tp>95% | 25 x 25 mm |
UVFS, unmounted, 288 nm
型號 | 波長 | 反射(S-POL) | 透射(P-POL) | 尺寸 |
430-1103 | 280 nm | Rs>99% | Tp>90% | 10 x 10 mm |
430-1153 | 280 nm | Rs>99% | Tp>90% | 15 x 15 mm |
430-1203 | 280 nm | Rs>99% | Tp>90% | 20 x 20 mm |
UVFS, mounted, 288 nm
型號 | 波長 | 反射(S-POL) | 透射(P-POL) | 尺寸 |
430-1103-M2Ps | 280 nm | Rs>99% | Tp>90% | 10 x 10 mm |
430-1153-M2P | 280 nm | Rs>99% | Tp>90% | 15 x 15 mm |
430-1203-M2P | 280 nm | Rs>99 | Tp>90% | 20 x 20 mm |
UVFS, unmounted, 308 nm
型號 | 波長 | 反射(S-POL) | 透射(P-POL) | 尺寸 |
430-1105 | 308 nm | Rs>99% | Tp>90% | 10 x 10 mm |
430-1155 | 308 nm | Rs>99% | Tp>90% | 15 x 15 mm |
430-1205 | 308 nm | Rs>99% | Tp>90% | 20 x 20 mm |
UVFS, mounted, 308 nm
型號 | 波長 | 反射(S-POL) | 透射(P-POL) | 尺寸 |
430-1105-M2Ps | 308 nm | Rs>99% | Tp>90% | 10 x 10 mm |
430-1155-M2P | 308 nm | Rs>99% | Tp>90% | 15 x 15 mm |
430-1205-M2P | 308 nm | Rs>99% | Tp>90% | 20 x 20 mm |
UVFS, unmounted, 355 nm
型號 | 波長 | 反射(S-POL) | 透射(P-POL) | 尺寸 |
430-1107 | 355 nm | Rs>99% | Tp>90% | 10 x 10 mm |
430-1157 | 355 nm | Rs>99% | Tp>90% | 15 x 15 mm |
430-1207 | 355 nm | Rs>99% | Tp>90% | 20 x 20 mm |
UVFS, mounted, 355 nm
型號 | 波長 | 反射(S-POL) | 透射(P-POL) | 尺寸 |
430-1107-M2Ps | 355 nm | Rs>99% | Tp>90% | 10 x 10 mm |
430-1157-M2P | 355 nm | Rs>99% | Tp>90% | 15 x 15 mm |
430-1207-M2P | 355 nm | Rs>99% | Tp>90% | 20 x 20 mm |
材料 | BK7, UV FS |
表麵質量 | 40-20表麵光潔度(MIL-PRF-13830B) |
表麵平整度 | λ/4 @ 633 nm |
通光孔徑 | 90% of the face size |
光束偏差 | <3 arcmin |
尺寸公差 | ±0.3 mm |
激光損傷(shang) 閾值 | 0.3 J/cm2 |
EKSMA OPTICS是激光,激光係統和光學儀(yi) 器中使用的精密激光組件的製造商和供應商。 我們(men) 的激光組件可在科學,工業(ye) ,醫學,美學,軍(jun) 事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長範圍從(cong) 紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(zi) (THz)範圍的激光光學組件的應用範圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體(ti) ,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈衝(chong) 拾取係統的製造商和供應商,它們(men) 用於(yu) 激光器和其他應用光學儀(yi) 器。
EKSMA Optics從(cong) 1983年開始在激光領域開始其一項業(ye) 務,其基礎是在激光和光學領域的長期專(zhuan) 業(ye) 知識。
公司提供的所有組件均經過質量控製實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴(yan) 格的檢查程序,質量控製評估以及對新技術的承諾,我們(men) 不斷改進並提供優(you) 良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資於(yu) 的製造設備和擴展製造能力。
公司擁有:❯用於(yu) 平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體(ti) LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體(ti) 的拋光設備。 of球麵鏡和非球麵鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們(men) 的鏡頭生產(chan) 工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS製成。 ❯IBS鍍膜設施可用於(yu) 激光光學和晶體(ti) 的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調製器的組裝設備–基於(yu) BBO,DKDP和KTP晶體(ti) 的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光,激光係統和光學儀(yi) 器中使用的精密激光組件的製造商和供應商。 我們(men) 的激光組件可在科學,工業(ye) ,醫學,美學,軍(jun) 事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長範圍從(cong) 紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(zi) (THz)範圍的激光光學組件的應用範圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體(ti) ,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈衝(chong) 拾取係統的製造商和供應商,它們(men) 用於(yu) 激光器和其他應用光學儀(yi) 器。
EKSMA Optics從(cong) 1983年開始在激光領域開始其一項業(ye) 務,其基礎是在激光和光學領域的長期專(zhuan) 業(ye) 知識。
公司提供的所有組件均經過質量控製實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴(yan) 格的檢查程序,質量控製評估以及對新技術的承諾,我們(men) 不斷改進並提供優(you) 良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資於(yu) 的製造設備和擴展製造能力。
公司擁有:❯用於(yu) 平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體(ti) LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體(ti) 的拋光設備。 of球麵鏡和非球麵鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們(men) 的鏡頭生產(chan) 工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS製成。 ❯IBS鍍膜設施可用於(yu) 激光光學和晶體(ti) 的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調製器的組裝設備–基於(yu) BBO,DKDP和KTP晶體(ti) 的普克爾斯盒。
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