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Eksma 保護銀反射鏡-2

簡要描述:Eksma 保護銀反射鏡-2
在整個(ge) 可見光和近紅外光譜區域中,保護銀(Ag)鏡的反射率均高於(yu) 鋁。我們(men) 保護銀鏡具有出色的耐用性。

  • 產品品牌:Eksma
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2021-03-23
  • 訪  問  量:921

詳細介紹

品牌Eksma價格區間麵議
組件類別光學元件應用領域醫療衛生,環保,化工,電子/電池,綜合

Eksma 保護銀反射鏡-2



保護銀鏡,對於(yu) 400 nm-IR的平均反射率> 96%。在整個(ge) 可見光和近紅外光譜區域中,這些反射鏡的反射率均高於(yu) 鋁。

Eksma 保護銀反射鏡-2

產(chan) 品介紹

ØLIDT-在800 nm,50 Hz,94 fsec脈衝(chong) 下為(wei) 0.25 J / cm2 *

ØLIDT-在1064 nm,50 Hz,11納秒脈衝(chong) 下為(wei) 1.8 J / cm2 *

Ø400 nm的平均反射率> 97%–紅外

Ø提供BK7,UVFS,Zerodur®基材

Ø提供圓形,方形,平麵或球麵鏡

ØOEM功能-請聯係以獲得*

Ø可應要求提供測試樣品

在整個(ge) 可見光和近紅外光譜區域中,保護銀(Ag)鏡的反射率均高於(yu) 鋁。我們(men) 保護銀鏡具有出色的耐用性。

*激光誘導損壞閾值結果是根據ISO 21254-2:1000對1測試程序測得的。

EKSMA OPTICS是激光,激光係統和光學儀(yi) 器中使用的精密激光組件的製造商和供應商。 我們(men) 的激光組件可在科學,工業(ye) ,醫學,美學,軍(jun) 事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長範圍從(cong) 紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(zi) (THz)範圍的激光光學組件的應用範圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體(ti) ,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈衝(chong) 拾取係統的製造商和供應商,它們(men) 用於(yu) 激光器和其他應用光學儀(yi) 器。
EKSMA Optics從(cong) 1983年開始在激光領域開始其一項業(ye) 務,其基礎是在激光和光學領域的長期專(zhuan) 業(ye) 知識。
公司提供的所有組件均經過質量控製實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴(yan) 格的檢查程序,質量控製評估以及對新技術的承諾,我們(men) 不斷改進並提供優(you) 良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資於(yu) 的製造設備和擴展製造能力。
公司擁有:❯用於(yu) 平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體(ti) LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體(ti) 的拋光設備。 of球麵鏡和非球麵鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們(men) 的鏡頭生產(chan) 工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS製成。 ❯IBS鍍膜設施可用於(yu) 激光光學和晶體(ti) 的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調製器的組裝設備–基於(yu) BBO,DKDP和KTP晶體(ti) 的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光,激光係統和光學儀(yi) 器中使用的精密激光組件的製造商和供應商。 我們(men) 的激光組件可在科學,工業(ye) ,醫學,美學,軍(jun) 事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長範圍從(cong) 紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(zi) (THz)範圍的激光光學組件的應用範圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體(ti) ,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈衝(chong) 拾取係統的製造商和供應商,它們(men) 用於(yu) 激光器和其他應用光學儀(yi) 器。
EKSMA Optics從(cong) 1983年開始在激光領域開始其一項業(ye) 務,其基礎是在激光和光學領域的長期專(zhuan) 業(ye) 知識。
公司提供的所有組件均經過質量控製實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴(yan) 格的檢查程序,質量控製評估以及對新技術的承諾,我們(men) 不斷改進並提供優(you) 良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資於(yu) 的製造設備和擴展製造能力。
公司擁有:❯用於(yu) 平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體(ti) LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體(ti) 的拋光設備。 of球麵鏡和非球麵鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們(men) 的鏡頭生產(chan) 工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS製成。 ❯IBS鍍膜設施可用於(yu) 激光光學和晶體(ti) 的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調製器的組裝設備–基於(yu) BBO,DKDP和KTP晶體(ti) 的普克爾斯盒。

產(chan) 品型號

保護銀平凹球麵鏡

直徑:12.7 + 0.00 / -0.13mm邊緣厚度(ET):6.0±0.2mm

型號

材料

類型

尺寸

厚度

半徑

091-0125R-50

BK7

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-50 mm

091-0125R-75

BK7

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-75 mm

091-0125R-100

BK7

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-100 mm

091-0125R-150

BK7

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-150 mm

091-0125R-200

BK7

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-200 mm

091-0125R-250

BK7

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-250 mm

091-0125R-300

BK7

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-300 mm

091-0125R-400

BK7

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-400 mm

091-0125R-500

BK7

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-500 mm

091-0125R-1000

BK7

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-1000 mm

091-0125R-1500

BK7

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-1500 mm

091-0125R-2000

BK7

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-2000 mm

091-3125R-50

UVFS

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-50 mm

091-3125R-75

UVFS

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-75 mm

091-3125R-100

UVFS

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-100 mm

091-3125R-150

UVFS

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-150 mm

091-3125R-200

UVFS

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-200 mm

091-3125R-250

UVFS

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-250 mm

091-3125R-300

UVFS

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-300 mm

091-3125R-400

UVFS

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-400 mm

091-3125R-500

UVFS

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-500 mm

091-3125R-1000

UVFS

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-1000 mm

091-3125R-1500

UVFS

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-1500 mm

091-3125R-2000

UVFS

pl/cv

ø 12.7 mm

6 mm

-2000 mm

保護銀平凹球麵鏡

直徑:50.8 + 0.00 / -0.13mm邊緣厚度(ET):10.0±0.2mm

型號

材料

類型

尺寸

厚度

半徑

095-0125R-100

BK7

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-100 mm

095-0125R-150

BK7

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-150 mm

095-0125R-200

BK7

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-200 mm

095-0125R-250

BK7

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-250 mm

095-0125R-300

BK7

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-300 mm

095-0125R-400

BK7

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-400 mm

095-0125R-500

BK7

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-500 mm

095-0125R-600

BK7

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-600 mm

095-0125R-800

BK7

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-800 mm

095-0125R-1000

BK7

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-1000 mm

095-0125R-1500

BK7

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-1500 mm

095-0125R-2000

BK7

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-2000 mm

095-0125R-2500

BK7

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-2500 mm

095-0125R-3000

BK7

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-3000 mm

095-0125R-4000

BK7

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-4000 mm

095-0125R-5000

BK7

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-5000 mm

095-0125R-6000

BK7

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-6000 mm

095-0125R-8000

BK7

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-8000 mm

095-0125R-10000

BK7

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-10000 mm

095-3125R-100

UVFS

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-100 mm

095-3125R-150

UVFS

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-150 mm

095-3125R-200

UVFS

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-200 mm

095-3125R-250

UVFS

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-250 mm

095-3125R-300

UVFS

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-300 mm

095-3125R-400

UVFS

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-400 mm

095-3125R-500

UVFS

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-500 mm

095-3125R-600

UVFS

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-600 mm

095-3125R-800

UVFS

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-800 mm

095-3125R-1000

UVFS

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-1000 mm

095-3125R-1500

UVFS

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-1500 mm

095-3125R-2000

UVFS

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-2000 mm

095-3125R-2500

UVFS

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-2500 mm

095-3125R-3000

UVFS

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-3000 mm

095-3125R-4000

UVFS

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-4000 mm

095-3125R-5000

UVFS

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-5000 mm

095-3125R-6000

UVFS

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-6000 mm

095-3125R-8000

UVFS

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-8000 mm

095-3125R-10000

UVFS

pl/cv

ø 50.8 mm

10 mm

-10000 mm

 

材料

BK7, UVFS

S1表麵平整度*

λ/10@633 nm

S1表麵質量*

40-20表麵光潔度 (MIL-PRF-13830B)

S2表麵質量

簡單拋光

通光孔徑

>90% of the diameter

直徑公差

0.00/-0.13 mm

厚度公差

±0.2 mm

激光誘導的損傷(shang) 閾值@ 1064 nm

1.8 J/cm2
at 1064 nm, 50 Hz, 11 nsec pulses**

激光誘導的損傷(shang) 閾值@ 800 nm

0.25 J/cm2
at 800 nm, 50 Hz, 94 fsec pulses**

S1 *球麵鏡的表麵是彎曲的

**激光誘導的損傷(shang) 閾值結果是由LIDARIS根據ISO 21254-2:1000對1測試程序測量的。

 

EKSMA OPTICS是激光,激光係統和光學儀(yi) 器中使用的精密激光組件的製造商和供應商。 我們(men) 的激光組件可在科學,工業(ye) ,醫學,美學,軍(jun) 事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長範圍從(cong) 紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(zi) (THz)範圍的激光光學組件的應用範圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體(ti) ,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈衝(chong) 拾取係統的製造商和供應商,它們(men) 用於(yu) 激光器和其他應用光學儀(yi) 器。
EKSMA Optics從(cong) 1983年開始在激光領域開始其一項業(ye) 務,其基礎是在激光和光學領域的長期專(zhuan) 業(ye) 知識。
公司提供的所有組件均經過質量控製實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴(yan) 格的檢查程序,質量控製評估以及對新技術的承諾,我們(men) 不斷改進並提供優(you) 良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資於(yu) 的製造設備和擴展製造能力。
公司擁有:❯用於(yu) 平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體(ti) LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體(ti) 的拋光設備。 of球麵鏡和非球麵鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們(men) 的鏡頭生產(chan) 工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS製成。 ❯IBS鍍膜設施可用於(yu) 激光光學和晶體(ti) 的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調製器的組裝設備–基於(yu) BBO,DKDP和KTP晶體(ti) 的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光,激光係統和光學儀(yi) 器中使用的精密激光組件的製造商和供應商。 我們(men) 的激光組件可在科學,工業(ye) ,醫學,美學,軍(jun) 事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長範圍從(cong) 紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(zi) (THz)範圍的激光光學組件的應用範圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體(ti) ,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈衝(chong) 拾取係統的製造商和供應商,它們(men) 用於(yu) 激光器和其他應用光學儀(yi) 器。
EKSMA Optics從(cong) 1983年開始在激光領域開始其一項業(ye) 務,其基礎是在激光和光學領域的長期專(zhuan) 業(ye) 知識。
公司提供的所有組件均經過質量控製實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴(yan) 格的檢查程序,質量控製評估以及對新技術的承諾,我們(men) 不斷改進並提供優(you) 良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資於(yu) 的製造設備和擴展製造能力。
公司擁有:❯用於(yu) 平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體(ti) LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體(ti) 的拋光設備。 of球麵鏡和非球麵鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們(men) 的鏡頭生產(chan) 工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS製成。 ❯IBS鍍膜設施可用於(yu) 激光光學和晶體(ti) 的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調製器的組裝設備–基於(yu) BBO,DKDP和KTP晶體(ti) 的普克爾斯盒。

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